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    溝槽構(gòu)造SiC-MOSFET可大幅降低導(dǎo)通電阻
    協(xié)助工業(yè)設(shè)備等大功率設(shè)備的小型化與低功耗化
    [作者 ROHM]   2015年08月14日 星期五 瀏覽人次: [19818]


    ROHM近日研發(fā)出採用溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET,並已建立完備的量產(chǎn)體制。與量產(chǎn)中的平面型SiC-MOSFET相比,同一晶片尺寸的導(dǎo)通電阻可降低50%,這將大幅降低太陽能發(fā)電用功率調(diào)節(jié)器和工業(yè)設(shè)備用電源、工業(yè)用變流器等所有相關(guān)設(shè)備的功率損耗。此次研發(fā)的SiC-MOSFET計畫將推出功率模組及離散式封裝產(chǎn)品,目前已建立完備的功率模組產(chǎn)品的量產(chǎn)體制。


    產(chǎn)品背景

    近年來,在全球都在尋求解決供電問題的大環(huán)境下,如何有效地輸送並使用所發(fā)電力的「功率轉(zhuǎn)換」變得相當(dāng)重要。SiC功率元件作為可顯著減少此功率轉(zhuǎn)換時損耗的關(guān)鍵元件。ROHM於2010年成功研發(fā)實現(xiàn)SiC MOSFET的量產(chǎn),並在持續(xù)推進(jìn)可進(jìn)一步降低功率損耗的元件研發(fā)。



    圖1 : 單溝槽式與雙溝槽式的結(jié)構(gòu)比較
    圖1 : 單溝槽式與雙溝槽式的結(jié)構(gòu)比較

    京都大學(xué)工學(xué)研究科電子工學(xué)專業(yè)木本恒暢教授表示:「Si(矽)材料在發(fā)展上已經(jīng)接近其理論性能極限。對此,ROHM公司率先發(fā)力採用可實現(xiàn)高耐壓、低損耗(高效率)的SiC(碳化矽)材料的SiC功率元件,持續(xù)推進(jìn)研發(fā)與量產(chǎn)。


    此次,率先實現(xiàn)量產(chǎn)採用可最大限度發(fā)揮SiC特性的溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET。該SiC-MOSFET是兼?zhèn)涞蛽p耗特性與高速開關(guān)特性的高性能功率電晶體,功率轉(zhuǎn)換時的效率更高,可『毫無浪費』的用電,其量產(chǎn)將為太陽能發(fā)電用功率調(diào)節(jié)器和工業(yè)設(shè)備用電源等所有設(shè)備進(jìn)一步實現(xiàn)節(jié)能化、小型化、輕量化作貢獻(xiàn)?!?/span>


    技術(shù)特點

    採用溝槽結(jié)構(gòu),實現(xiàn)低導(dǎo)通電阻功率元件

    到目前為止,溝槽結(jié)構(gòu)因在SiC-MOSFET中採用可有效降低導(dǎo)通電阻而備受關(guān)注,但為了確保元件的長期可靠性,需要設(shè)計能夠緩和閘極溝槽部分產(chǎn)生的電場結(jié)構(gòu)。ROHM採用獨創(chuàng)的結(jié)構(gòu)成功解決了該課題,並實現(xiàn)了採用溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET的量產(chǎn)。與已在量產(chǎn)中的平面型SiC-MOSFET相比,導(dǎo)通電阻可降低約50%,同時還提高了開關(guān)性能(輸入電容降低約35%)。



    圖2
    圖2

    圖3
    圖3

    全SiC功率模組

    ROHM又研發(fā)出採用此次研發(fā)的溝槽結(jié)構(gòu)SiC-MOSFET的「全SiC」功率模組。


    該產(chǎn)品內(nèi)部電路為2in1結(jié)構(gòu),採用SiC-MOSFET及SiC-SBD,額定電壓1200V,額定電流180A。


    與使用平面型SiC-MOSFET的「全SiC」模組相比,其開關(guān)損耗也降低了約42%。



    圖4
    圖4

    離散式產(chǎn)品

    ROHM將依次展開額定電壓650V、1200V各3款產(chǎn)品的研發(fā)。額定電流將繼續(xù)研發(fā)118A(650V)、95A(1200V)的產(chǎn)品。


    注釋

    1.MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor的縮寫):金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)電晶體,是FET中最被普遍使用的結(jié)構(gòu)。


    作為開關(guān)元件使用。


    2.溝槽式結(jié)構(gòu):溝槽(Trench)意為凹槽。是在晶片表面形成凹槽,在其側(cè)壁形成MOSFET閘極的結(jié)構(gòu)。不存在平面型MOSFET在結(jié)構(gòu)上存在的JFET電阻,比平面結(jié)構(gòu)更容易實現(xiàn)微細(xì)化,因此有望實現(xiàn)接近SiC材料原本性能的導(dǎo)通電阻。


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